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用时不到两年半:英特尔 High-NA EUV 晶圆处理量突破百万片,超越其他厂商总和
📋总体概括
IT之家 9 月 8 日消息,英特尔于当地时间周一宣布,其采用高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻设备处理的 300mm 晶圆数量累计已突破一百万大关。这一里程碑距离其首台 High-NA EUV 设备完成组装还不到两年半时间。 英特尔目前拥有两台 ASML Twinscan EXE:5000 原型机及至少一台 EXE:5200B 量产机型。 2025 年 2 月,英特尔使用 High-
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- ▸IT之家 9 月 8 日消息,英特尔于当地时间周一宣布,其采用高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻设备处理的
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