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韩媒嘲讽长鑫HBM3良率仅25%:4个里3个是废品!拿什么追SK海力士
📋总体概括
韩国《朝鲜日报》报道称,长鑫存储已启动第四代HBM3试产,但初期良率仅25%,远低于行业80%的量产黄金线,而SK海力士同类产品自2022年量产后良率已超90%。韩媒将瓶颈指向TSV硅通孔技术:长鑫每颗芯片TSV数量约3000个,明显少于三星HBM2的5000个和SK海力士HBM3的8000个。报道基调带有明显竞争色彩,但也客观揭示了中国厂商在先进堆叠封装工艺上与韩国头部企业仍存在代差,追赶需要时间积累。
⚡关键信息
- ▸长鑫存储HBM3已试产,初期良率仅25%,不足行业80%量产线的三分之一
- ▸SK海力士2022年起量产HBM3,良率已超90%,差距达65个百分点
- ▸韩媒称瓶颈在TSV工艺:硅孔偏移或填充不全会导致整层芯片报废
- ▸TSV密度对比:长鑫约3000个,三星HBM2超5000个,SK海力士HBM3超8000个
- ▸三星、SK海力士在TSV上已有4至5年经验积累,构成工艺壁垒
🔥犀利点评
韩媒这波嘲讽虽有立场,但25%对90%的良率差距是硬数据,没什么好辩解的。HBM的门槛从来不在DRAM裸片本身,而在TSV堆叠这种靠时间砸出来的手上功夫——长鑫G4工艺没问题恰恰说明卡住的是封装环节。不过试产期25%良率并非死刑判决,海力士当年也是这么熬过来的。真正的问题是中国厂商能否在AI内存窗口期关闭前把良率拉上来,这才是生死线。
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